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荷蘭SCIL科研級納米壓印光刻機(jī)

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詳細(xì)介紹

荷蘭SCIL公司

  荷蘭SCIL公司是知名的納米壓印設(shè)備供應(yīng)商,是荷蘭飛利浦公司投資的高科技公司之一,“SCIL基底保形壓印光刻”技術(shù),結(jié)合了小面積硬壓與大面積軟壓的優(yōu)勢,真正意義上實(shí)現(xiàn)了12寸晶圓高質(zhì)量無基底損傷保形的納米壓印,已成功用于12寸量產(chǎn)線,已經(jīng)被國際上很多知名fab廠采用。

       “SCIL基底保形壓印光刻”是一種經(jīng)濟(jì)高效、穩(wěn)健、高產(chǎn)量的工藝,可在多種材料上實(shí)現(xiàn)納米分辨率圖案。SCIL可實(shí)現(xiàn)在達(dá) 300 毫米的晶圓區(qū)域上提供經(jīng)過驗(yàn)證的高質(zhì)量壓印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻對齊精度小于 1 μm 的圖案。

  荷蘭SCIL公司同時開發(fā)了的無機(jī)玻璃納米壓印光刻膠,可直接作為功能層使用,可直接省去2個工藝步驟,大大降低了生產(chǎn)成本。

       SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圓手動研發(fā)工具到全自動系統(tǒng)的全方位解決方案,并可以幫助客戶優(yōu)化設(shè)備、耗材和流程,以實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)。

SCIL 技術(shù)特色

  - 即使在非平坦和彎曲的表面上也可以保證保形接觸印刷(模板復(fù)制技術(shù))。

  - 獨(dú)特的 SCIL 壓印工藝可確保<10 nm 分辨率、低圖案變形和無顆粒損壞印模。

  - 套刻對齊精度:< 1 μm

  - Sol-gel的優(yōu)異蝕刻特性可得到極高的蝕刻率。

  - Sol-gel的的熱穩(wěn)定性、光學(xué)透明度和(UV)穩(wěn)定性使其適合作為功能層。

  - 使用熱Sol-gel大大增加了母版壽命。

  - 總體而言,SCIL可將超高的壓印質(zhì)量和產(chǎn)量與高吞吐量和低總體擁有成本相結(jié)合。

  LabSCIL型科研級納米壓印系統(tǒng)簡介

        LabSCIL專為有興趣開發(fā) SCIL 流程和應(yīng)用程序的大學(xué)、研究所和公司的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室開發(fā),對于對可用于小批量試生產(chǎn)的工具感興趣的公司,LabSCIL將是理想的選擇。

技術(shù)參數(shù)

操作

手動放片,納米壓印是全自動的

晶圓尺寸

最大8”,向下兼容

晶圓厚度

0.3 - 2.5 mm

晶圓搬運(yùn)

托盤手動加載

光刻膠類型

Thermal sol-gel

UV sol-gel

UV organic

壓印技術(shù)

低力軟?;妆P渭{米壓印

尺寸(WxLxH)

1.8 x 1.4 x 2.2 m

套刻精度

 < 1μm

應(yīng)用

  納米圖案化是眾多納米光子應(yīng)用的關(guān)鍵工藝步驟。下面提到的應(yīng)用程序只是一個選擇。其他應(yīng)用包括:

  - 增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)和虛擬現(xiàn)實(shí) (AR/VR) 光學(xué)

      - MicroLED

  - MEMS和3D傳感


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