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產(chǎn)品中心

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多點納米膜厚測量儀 C11295

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產(chǎn)品特點


C11295型多點納米膜厚測量系統(tǒng)使用光譜相干測量學(xué),用以測量半導(dǎo)體制造過程中的薄膜厚度,以及安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備上的APC和薄膜的質(zhì)量控制。C11295可進行實時多點測量,也可以在膜厚測量中同時測量反射率(透射率)、目標(biāo)顏色以及暫時變化。


詳細介紹

詳細參數(shù)
型號 C11295-XX*1
可測膜厚范圍(玻璃) 20 nm to 100 μm*2
測量可重復(fù)性(玻璃) 0.02 nm*3 *4
測量準(zhǔn)確性(玻璃) ±0.4 %*4 *5
光源 Xenon light source *6
光斑尺寸 Approx. φ1 mm*4
工作距離 10 mm*4
可測層數(shù) Max. 10 layers
分析 FFT analysis, Fitting analysis
測量時間 19 ms/point*7
光纖連接頭 SMA
外部控制功能 Ethernet
電源 AC100 V to AC240 V, 50 Hz/60 Hz
功耗 At 2ch: Approx. 330 VA, at 15ch: Approx. 450 VA
測量波長范圍 320 nm to 1000 nm
接口 USB 2.0 (Main unit - Computer) RS-232C (Light source - Computer)
測量點數(shù) ?2 to 15

* 1:-XX表示測量點的數(shù)量。
* 2:轉(zhuǎn)換時玻璃的折射率= 1.5。
* 3:測量400nm厚的玻璃膜時的標(biāo)準(zhǔn)偏差(公差)。
* 4:取決于要使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡放大倍率。
* 5:測量范圍保證在VLSI標(biāo)準(zhǔn)記錄保證范圍內(nèi)。
* 6:鹵素光源型號為C11295-XXH。
* 7:最短曝光時間。

產(chǎn)品特性

● 多達15點同時測量


  • ● 無參照物工作


  • ● 通過光強波動校正功能實現(xiàn)長時間穩(wěn)定測量


  • ● 提醒及警報功能(通過或失敗)


  • ● 反射(透射)和光譜測量


  • ● 高速、高準(zhǔn)確度


  • ● 實時測量


  • ● 不整平薄膜精確測量


  • ● 分析光學(xué)常數(shù)(n,k)


  • ● 可外部控制
外形尺寸(單位:mm)


技術(shù)資料

廠商推薦產(chǎn)品

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