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全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)(ALD)
- 品牌：維易科
- 型號(hào)： Phoenix G2 ALD System
- 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議
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香港電子器材有限公司
更新時(shí)間：2025-04-24 09:14:23 -
銷售范圍售全國(guó)
入駐年限第10年
營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品原子層沉積系統(tǒng)(4件)
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詳細(xì)介紹
產(chǎn)品介紹：
Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購(gòu)，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn)，全 球已安裝五百多臺(tái)ALD設(shè)備。
方式: Thermal batch ALD
優(yōu)勢(shì): 大批量熱ALD鍍膜，可靠成熟，設(shè)計(jì)靈活，易于使用，并具有許多操作界面，許多內(nèi)置安全功能
薄膜: 高達(dá)370 mm x 470 mm (Gen 2.5 Panels) / 100mm 晶片 - 240 to 360 / 150mm 晶片 - 80 to 160 / 200mm 晶片 - 80 to 100 / 300 mm 晶片 - up to 40 / 其它3D 對(duì)象自定義支架
設(shè)備尺寸: 900 mm x 1370 mm x 1700 mm
功率: 208 VAC 3 Phase, 8500 W (包含泵)
zui高溫度: 可達(dá)285°C
沉積均一性: Al2O3 晶片<1.5% / Al2O3批量<1%
前驅(qū)體源瓶: 3.1 l 源瓶或 600 ml
載氣/排氣: N2 or Ar MFC flow control
原位分析選項(xiàng): 臭氧發(fā)生器, LVPD,集成手套箱, 半自動(dòng)負(fù)載
自動(dòng)負(fù)載, SECS/GEM 界面
滬公網(wǎng)安備 31011502008050號(hào)