產(chǎn)品概述

EcoClean系統(tǒng)為當(dāng)今和下一代技術(shù)創(chuàng)建了先進(jìn)的解決方案，為工程師提供了晶片的靈活性和可靠性：

?去除光刻膠
?公關(guān)目的
?聚酰亞胺去除
?有機(jī)物去除
?氧化銅去除

Yield Engineering Systems（YES）已將EcoClean設(shè)計(jì)為高產(chǎn)量，擁有成本低的單晶圓光刻膠去除系統(tǒng)。 ICP遠(yuǎn)程源產(chǎn)生原子氧，該氧與晶片表面的光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。 通過采用下游抗蝕劑剝離工藝，可以實(shí)現(xiàn)高去除率，而不會(huì)造成基板和器件的電損壞或缺陷。 EcoClean提供了自動(dòng)化的處理方法，氣體消耗低，是一種環(huán)保的“綠色”解決方案。

技術(shù)參數(shù)

硬件
潔凈室兼容性：10級(jí)
工作溫度：最高145°C
氮?dú)饬髁浚?.7 SCFM
工藝氣體流量：平均20-50 SCCM
內(nèi)部腔室尺寸：45.72 CM（W）X 45.72 CM（D）X 30.48 CM（H）—（18” x 18” x 12”）
腔室處理區(qū)：共12個(gè)托盤； 13個(gè)托盤插槽，用于靈活配置— 15英寸x 15英寸架子尺寸的托盤，用于不同的處理模式（活動(dòng)，接地和浮動(dòng)）—標(biāo)準(zhǔn)
配置：4個(gè)活動(dòng)，4個(gè)接地，4個(gè)浮動(dòng)
系統(tǒng)整體尺寸：59.69厘米（寬）x 71.12厘米（深）x 113.284厘米（高）—（23.5“ x 28” x 44.6“）
箱體材質(zhì)：6061-T6鋁
工藝氣體輸入：3個(gè)標(biāo)準(zhǔn)，第4個(gè)可選
質(zhì)量流量控制器：可選，最多3個(gè)用于氣體混合
符合SEMI?：S2 / S8
軟件
配方數(shù)：12個(gè)，具有加載/保存/循環(huán)/鏈接功能
曝光時(shí)間范圍：0-1200秒（20分鐘）
定時(shí)器設(shè)置分辨率：1秒
G1000規(guī)格
用于引線鍵合表面處理和溫和清潔應(yīng)用

性能
射頻等離子功率：550 VAC時(shí)為0-1000瓦，可選功率
射頻漏磁：0.6 mA / m，4.15 x 10-7 A2 / m2平均
射頻泄漏電氣：平均1.6 V / m，4.2 V2 / m2
耗氮量：閑置0 SCF，峰值6.8 SCF，平均1.7 SCF
功耗（帶泵）：閑置375W，峰值1000W，平均640W
反應(yīng)氣消耗量：閑置0 SCF，20-50 SCCM
散熱：平均920瓦
配件
電源要求：208-230V，20安培，50/60 Hz，1相
系統(tǒng)重量：158.76公斤（350磅）