NANOSYSTEM NVF-2700 3D光學表面分析儀通過的技術(shù)力對多樣研究所有的表面提供優(yōu)化解決方案。所有的功能實現(xiàn)全自動快速運轉(zhuǎn)。

NVF-2700可以快測量所有表面的測量儀，利用持有的白光干涉儀WSI和相應算法開發(fā)的產(chǎn)品。X，Y，Z軸全部設(shè)計為全自動，通過可調(diào)節(jié)F.O.V鏡頭，自動構(gòu)成多樣的倍率。此產(chǎn)品專為研究所，大學和工藝管理而制作的產(chǎn)品。此設(shè)備可以通過拼接（Stitching）功能可以進行大面積（500?）測量。

WSI/PSI技術(shù)，只需要表面有1%的反射率即可測量，表面現(xiàn)象中的高度，寬度，幅度，粗糙度(Ra, Rq, Rz, Rt, etc)等各種項目均可測量。

此外，WSI的高度分辨率為0.1nm，2秒鐘時間即可掃描所有的表面，在不破壞樣品的情況下,可測定0.1nm到1000um的樣品，均可觀察2D/3D的現(xiàn)象。不僅如此，更是保障了0.1%(1σ)世界水準的重復性，本公司保有的技術(shù)可應用于 PCB, display, engineering part, chemical material, optical parts, bio, R&D等方面。

產(chǎn)品規(guī)格：

測量方法：白光掃描干涉法/相移干涉法

FOV鏡頭：4位電動轉(zhuǎn)塔，可加裝F.O.V（選項）

干涉物鏡：5物鏡可選(程控）

光源：白光LED照明

掃描范圍：≤270um（PZT）

掃描速度：12μm/sec (1x~5x用戶可選)

垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm

橫向分辨率：0.2-4μm（取決于物鏡和FOV）

臺階高度重復性：0.1％@1σ (標準8um臺階樣品)

傾斜度：±6°

XY行程：100mmX100mm

工作臺尺寸： 230X230mm（程控）

選項

FOV鏡頭： 0.5X，0.75X，1X，1.5X，2X(可選)

干涉物鏡：2.5x, 5x, 10x, 20x, 50x, 100x (可選)

掃描范圍：最多達可達10mm（電機掃描選項）

技術(shù)比較

一般光學顯微鏡：廣泛使用但是具有分辨率和重復性不高的缺點。

電子顯微鏡（SEM）：測量準備過程和測量時間超過20分鐘 (star-up, vacuuming, and observation)，此外，檢測臺過小，不得不對測量物體進行破壞測量的情況較多。

傳統(tǒng)接觸式粗糙度測量儀：由于是接觸式測量儀，會在樣品表面留下劃痕，精度在2微米左右。

原子顯微鏡（AFM）：消耗大量時間，準備過程非常復雜，測量技術(shù)最多需要12小時。

本公司W(wǎng)SI：無需任何準備，即可在2秒內(nèi)完成精度在（0.1nm),并可測量0.1nm到1000um的樣品，大量公司在產(chǎn)品的QC，QA或是R&D部門大量使用此產(chǎn)品。