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熱絲CVD設(shè)備HWCVD MVS

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詳細(xì)介紹

熱絲薄膜沉積設(shè)備


MVSystems 公司設(shè)計,制造和提供各類單腔室和多腔室薄膜沉積設(shè)備。另外,根據(jù)用戶的需求,各種PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以單個制造,也可配備到現(xiàn)有的團簇型(星型)或是直線型沉積系統(tǒng)。MVSystems具有制造用于各類研發(fā),中試以及小型生產(chǎn)設(shè)備的強大能力和豐富經(jīng)驗,所生產(chǎn)的設(shè)備已成功地使用在全世界23個國家的大學(xué),研究院所和公司。我們公司的工程部門可最大限度地為用戶著想, 以使用戶們獲取他們最需要的且價格合適的設(shè)備。

作為設(shè)備銷售的一部分,我們還能向用戶保證薄膜半導(dǎo)體材料具有**光電子性能參數(shù)。這些材料包括非晶硅,納米硅(微晶硅),介質(zhì)材料(比如氮化硅和氧化硅)和透明導(dǎo)電膜。

其他業(yè)務(wù)

MVSystems 公司擁有各類研發(fā)設(shè)施和技術(shù)人員,具備開發(fā)各種光電子薄膜技術(shù)的能力。

研發(fā): 可以為全球的大學(xué),政府研究機構(gòu)和公司提供服務(wù)。

代工服務(wù): 使用計算機控制的大面積團簇型(星型)等離子輝光放電(PECVD)/濺射系統(tǒng),MVSystems 公司可以為用戶提供如下各類薄膜材料和器件,包括:

  • 非晶硅本征和摻雜(n+ and p+ 型)膜。

  • 納米(或者微晶)硅 (本征和摻雜)膜。

  • 介質(zhì)材料(如SiNx, SiOx)。

  • 透明導(dǎo)電薄膜 (如ITO,AZO)。

  • 太陽電池,非晶硅薄膜晶體管,電子成像和存儲器件等。

研發(fā)設(shè)施: 在公司實驗室內(nèi)配置了具有高度安全性的監(jiān)測系統(tǒng)用于監(jiān)控和處理各類危險有毒氣體,比如硅烷等。

(1) 大面積團簇型薄膜沉積系統(tǒng):最大襯底面積可達30厘米×40厘米,具有6個PECVD腔室(配有射頻,甚高頻電源以及具有脈沖調(diào)制功能)和1個雙靶位濺射系統(tǒng)(配有直流和射頻電源),以及多片倉位功能。整個操作可由電腦控制。

(2) 熱蒸發(fā)系統(tǒng)用于制作金屬電極。

(3) 太陽電池測試系統(tǒng):配有符合AM1.5G光譜的氙燈光源??捎糜跍y量電池的光暗I-V曲線和量子效率。也可用作測試各類半導(dǎo)體薄膜的光暗電導(dǎo)率以及γ參數(shù)。

(4) 電導(dǎo)率激活能測試系統(tǒng)。

(5) 紅外光譜測試儀。

(6) 紫外至紅外光的透射和反射測量儀,配置有積分球。

(7) 橢偏儀用于測量薄膜厚度和介電常數(shù)。

(8) 臺階儀用于測量薄膜厚度。

(9) 光發(fā)射譜儀用于實時監(jiān)控等離子體過程。

(10) 各種光源,濾波片,示波儀,顯微鏡以及其它實驗室通用儀器。




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