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iPHEMOS-DD倒置發(fā)射顯微鏡 C10506-05-16

品牌：日本濱松
型號： C10506-05-16
產(chǎn)地：亞洲日本
供應商報價：面議

濱松光子學商貿(mào)（中國）有限公司更新時間：2025-02-24 10:56:46

銷售范圍售全國

入駐年限第10年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品失效分析系統(tǒng)(4件)

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產(chǎn)品特點

倒置發(fā)射顯微鏡是一款背面分析系統(tǒng)，用于偵測和識別半導體器件上的光發(fā)射和熱發(fā)射。 ?
樣品可以輕松地安裝到探針卡上面實施點針，信號從器件背面?zhèn)蓽y。平臺下方可以選配多款不同種類的探測器和激光，使之完成多種探測方式。例如光發(fā)射和熱發(fā)射分析，近紅外-光束誘導電阻阻值變化分析，和一些其他的分析方式完成動態(tài)分析，滿足客戶需求。
?
Iphemos-DD
將樣品直接連接到測試機上，再把測試機架裝到設備上方能夠有效減少線纜長度，這使得高頻驅(qū)動樣品的分析成為可能，這種直接架裝方式可用于點針偵測12英寸晶片，也可用來偵測封裝好的樣品。 ?

詳細介紹

連接示例

產(chǎn)品特征

● 可安裝用于光發(fā)射分析和熱分析的兩個超高靈敏度相機

● 可安裝最多3個波長的激光器和一個EOP探頭光源

● 配備適合不同樣品的光學工作臺

● 高靈敏度微距鏡頭和最多10個適合每個探測器靈敏度波長的鏡頭

產(chǎn)品選配

● 激光掃描系統(tǒng)
● 高靈敏度近紅外相機進行光發(fā)射分析
● 高靈敏度中紅外相機進行熱分析
● 紅外-光致阻值改變（IR-OBIRCH）分析
● 激光輻射動態(tài)分析
● EO偵測分析
● 納米透鏡進行高分辨率、高靈敏度分析?
● 連接到CAD導航
● 連接到LSI測試儀

顯示功能

疊加顯示/對比度增強功能

iPHEMOS-DD將發(fā)光圖像疊加到高分辨率模板圖像上來快速定位缺陷點。對比度增強功能可使圖像更清晰，細節(jié)更多。

顯示功能

● 注釋
● 圖像的任何位置都可以顯示評論、箭頭等注釋符號。
● 比例顯示
● 可使用分段，在圖像上顯示比例寬度。
● 柵格顯示
● 圖像上可顯示水平和垂直柵格。
● 縮略圖顯示
● 圖像可以以縮略圖的形式存儲和調(diào)用，stage坐標等圖像信息也可顯示。
● 分屏顯示
● 圖案影像、發(fā)射圖像、疊加圖像以及參考圖像可一次顯示在4個窗口的屏幕上。

詳細參數(shù)

線性電壓	AC 200 V (50 Hz/60 Hz)
功耗	Approx. 1400 VA (Max. 3300 VA)
真空	Approx. 80 kPa or more
氣壓	0.5 MPa to 0.7 MPa
尺寸/重量	Main unit: 1980 mm (W)×1270 mm (D)×834 mm (H), Approx. 1700 kg Control rack: 880 mm (W)×700 mm (D)×1842 mm (H), Approx. 300 kg Optional desk: 1400 mm (W)×800 mm (D)×700 mm (H), Approx. 60 kg