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高壓X射線衍射儀

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詳細介紹

高壓X射線衍射儀 (HPXRD)

X射線衍射方法是研究晶體結構的重要手段之一。高壓X射線衍射實驗中,樣品尺寸通常較小,且衍射幾何會受到高壓樣品腔(DAC)的限制,因此該實驗方法對對X射線光源有較高要求,即要求X射線源同時具備微焦點、高通量、高能量三大要素。同步輻射光源是目前高壓衍射實驗使用的主要光源,但其機時通常較緊張。隨著科學技術的發(fā)展,傳統(tǒng)的X光機得到了長足發(fā)展,不論光源強度還是焦點尺寸都已經滿足了高壓實驗的需要。實驗室所用的高壓X射線衍射儀在使用時間上不受限制,為科研人員開展高壓衍射實驗提供了巨大的便利。

本公司針對高壓 X 射線衍射技術,采用旋轉中心定位方法,成功研制出針對高壓實驗的專用X射線衍射儀,其獨特的設計可同時用于高壓粉末和高壓單晶兩種實驗,實現一機兩用。

1、 可選微焦斑Mo靶(17kev),Ag靶材(22 kev),同時可選針對高壓實驗的高能液態(tài)金屬In光源(24 kev),X 射線光源具有聚焦后樣品處光斑小,光通量大和波長短等特點。

2、 大面積、單光子計數探測器提高衍射數據分辨率,獲得更多的衍射峰數量,提高晶體結構的分辨率。配備CdTe單光子計數型探測器,大幅提高對短波長射線的探測效率并降低背景噪音,提高數據信噪比。

3、 采用在同步輻射實驗裝置上所使用的先進旋轉中心定位法,在此基礎上進行優(yōu)化。利用五維電動樣品位移臺,通過軟件操作,實現樣品掃描對中。具有樣品到探測器距離固定不變、數據精確等優(yōu)勢,避免用戶操作時輻照損傷。

液態(tài)金屬In靶E1型X射線光源參數

高通量模式

焦斑大小

90 μm FWHM

通量

1.9 × 108 ph/s

發(fā)散度

3.15 mrad

小焦斑模式

焦斑大小

15 μm FWHM

通量

1.8 ×107 ph/s

發(fā)散度

12.6 mrad

特殊模式

焦斑大小

10 μmFWHM

通量

1.0 ×106 ph/s

發(fā)散度

2 mrad

位移臺參數


XY軸重復定位精度±0.2 μm;行程±10 mm;

Z軸重復定位精度≤±0.2 μm;行程±10 mm;

Ф 軸重復定位精度≤0.002°;行程±135°;

X1Y1重復定位精度±0.2 μm;行程±12.5 mm;

產品應用
  • 1、高壓下的結構相變、狀態(tài)方程、彈性、織構等研究

  • 2、涉及的材料包括高溫超導體、納米材料、超硬材料、礦物、大塊金屬玻璃、半導體、各種功能材料等

  • 3、應用領域包括物理、化學、地球/行星科學、材料等


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