產(chǎn)品介紹：

TWIN / TWIN 光路

布魯克獲得專屬發(fā)明的TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì)極大地簡(jiǎn)化了D8 ADVANCE的操作，使之適用于多種應(yīng)用和樣品類型。為便于用戶使用，該系統(tǒng)可在4種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。該系統(tǒng)無(wú)需人工干預(yù)，即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進(jìn)行切換，且無(wú)需人工干預(yù)，是在環(huán)境下和非環(huán)境下對(duì)包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）在內(nèi)的所有類型的樣品進(jìn)行分析的理想選擇。

動(dòng)態(tài)光束優(yōu)化（DBO）

布魯克獨(dú)有的DBO功能為X射線衍射的數(shù)據(jù)質(zhì)量樹立了全新的重要基準(zhǔn)。馬達(dá)驅(qū)動(dòng)發(fā)散狹縫、防散射屏和可變探測(cè)器窗口的自動(dòng)同步功能，可為您提供無(wú)可替代的數(shù)據(jù)質(zhì)量——尤其是在低2?角度時(shí)。除此之外，LYNXEYE全系列探測(cè)器均支持DBO：SSD160-2，LYNXEYE-2和LYNXEYE XE-T。

LYNXEYE XE-T

LYNXEYE XE-T是LYNXEYE系列探測(cè)器的旗艦產(chǎn)品。它是目前市面上只有這一個(gè)一款可采集0D、1D和2D數(shù)據(jù)的能量色散探測(cè)器，適用于所有波長(zhǎng)（從Cr到Ag），具有頂點(diǎn)的計(jì)數(shù)率和更好的角分辨率，是所有X射線衍射和散射應(yīng)用的理想選擇。

LYNXEYE XE-T具有優(yōu)于380 eV的能量分辨率，著實(shí)出色，是市面上性能更好的熒光過(guò)濾器探測(cè)器系統(tǒng)。借助它，您可在零強(qiáng)度損失下對(duì)由激發(fā)的鐵熒光進(jìn)行100％過(guò)濾，而且無(wú)需金屬濾波片，因此數(shù)據(jù)也不會(huì)存在偽影，如殘余K?和吸收邊。同樣，也無(wú)需用到會(huì)除去強(qiáng)度的二級(jí)單色器。

布魯克提供獨(dú)有的LYNXEYE XE-T探測(cè)器保證：交貨時(shí)保證無(wú)壞道！

應(yīng)用實(shí)例：

粉末衍射

X射線粉末衍射（XRPD）技術(shù)是 重要的材料表征工具之一。粉末衍射圖中的許多信息，直接源于物相的原子排列。在D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下，您將能簡(jiǎn)單地實(shí)施常見(jiàn)的XRPD方法：

· 鑒別晶相和非晶相，并測(cè)定樣品純度

· 對(duì)多相混合物的晶相和非晶相進(jìn)行定量分析

· 微觀結(jié)構(gòu)分析（微晶尺寸、微應(yīng)變、無(wú)序…）

· 熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力

· 織構(gòu)（擇優(yōu)取向）分析

· 指標(biāo)化、從頭晶體結(jié)構(gòu)測(cè)定和晶體結(jié)構(gòu)精修

對(duì)分布函數(shù)分析

對(duì)分布函數(shù)（PDF）分析是一種分析技術(shù)，它基于Bragg以及漫散射（“總散射”），提供無(wú)序材料的結(jié)構(gòu)信息。其中，您可以通過(guò)Bragg衍射峰，了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息（即長(zhǎng)程有序），通過(guò)漫散射，表征其局部結(jié)構(gòu)（即短程有序）。

就分析速度、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對(duì)非晶、弱晶型、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言，D8 ADVANCE和TOPAS軟件替代了市面上性能更好的PDF分析解決方案：

· 相鑒定

· 結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修

· 納米粒度和形狀

薄膜和涂層

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度操控功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí)，著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜）。D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析：

· 掠入射衍射

· X射線反射法

· 高分辨率X射線衍射

· 倒易空間掃描

技術(shù)參數(shù)：