SmartNIL紫外納米壓?。?/b>HERCULES NIL

一、設(shè)備原理：

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個(gè)完全集成的納米壓印系統(tǒng)，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的最新成員。 HERCULES NIL基于模塊化平臺(tái)，在單個(gè)平臺(tái)上將清洗模塊，抗蝕劑涂層模塊和烘烤預(yù)處理模塊與EVG的專(zhuān)有SmartNIL大面積納米壓?。∟IL）模塊結(jié)合在一起，用于直徑最 大為300 mm的晶片。

這是第 一個(gè)基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺(tái)和可交換模塊的NIL系統(tǒng)，可為客戶提供最 大的自由度來(lái)配置他們的系統(tǒng)，以最 好地滿足其生產(chǎn)需求，包括200 mm和300 mm晶圓的互換功能。通過(guò)為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在大面積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。 

二、應(yīng)用范圍

HERCULES NIL納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：

1. 增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)（AR / VR）光學(xué)器件，

2. 3D傳感器，

3. 納米光子學(xué)

4. 等離子體光學(xué)

5. 納米壓印光柵；

三、主要特點(diǎn)及技術(shù)參數(shù)

1、主要特點(diǎn)：

u 最 大產(chǎn)量高達(dá)40wafers每小時(shí)；

u “一站式服務(wù)”：將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過(guò)完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。

u 市場(chǎng)上最  先進(jìn)的納米壓印功能，

u 具有較低的力和保形壓印，

u 快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。

u 支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，全自動(dòng)UV-NIL壓印和微力剝離

u 完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）

u 200毫米/ 300毫米橋接工具能力

u 全區(qū)域覆蓋

u 批量生產(chǎn)最 小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

u 支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

u 適用于高形貌（粗糙）表面

u 分辨率取決于過(guò)程和模板

u 優(yōu)化工藝鏈

u 具有軟工作模板制造能力，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印模板制造設(shè)備

u 該設(shè)備可以配置微型環(huán)境，以確保最 低的缺陷率和最 高質(zhì)量的原版復(fù)制。

2、技術(shù)參數(shù)

u 最 多300毫米的基材

u 晶圓直徑（基板尺寸）100至200毫米（7200壓印模塊）/ 200至300毫米（7300壓印模塊）

u 解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

u 支持流程：SmartNIL?

u 最 大產(chǎn)量高達(dá)40wafe/小時(shí)

u 對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米

u 自動(dòng)分離：支持

u 前處理：提供所有預(yù)處理模塊

u 迷你環(huán)境和氣候控制：可選

u 工作印章制作：支持的

• 模板尺寸：最 大330*330mm

• 最 大壓印面積：最 大300*300mm

• 印章制備：支持工作模具制備，支持自動(dòng)楔形脫模

• 曝光：曝光光源：高功率LED（i線）窄帶曝光；波長(zhǎng)：300-500nm, 光強(qiáng)：~ 400 mW/cm2，光強(qiáng)均勻性：20%（6寸）

• 對(duì)準(zhǔn)模塊：機(jī)械對(duì)位精度±200um，光學(xué)對(duì)位精度±3um

• 壓印微結(jié)構(gòu)尺寸范圍：40nm-2um；

• 壓印結(jié)構(gòu)分辨率：≤40納米

• 壓印殘留層厚度：≤20納米

• 滾壓印速度：2mm/s-16mm/s, 可以調(diào)節(jié)

• 圖形保型度：≥90%

• 支持傾斜光柵壓印，傾斜度45-90°

• 最 多可配置8個(gè)模塊：清洗模塊，抗蝕劑涂層模塊，烘烤預(yù)處理模塊，EVG的專(zhuān)有SmartNIL大面積納米壓印（NIL）

• 上下料機(jī)械手

• 內(nèi)部各模塊間傳遞系統(tǒng)

• 上料系統(tǒng)：4料盒自動(dòng)上料

• SECS/GEM II: 可選。

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