品牌：Ecopia Corp.

型號：RTP-1300，RTP-1600；

RTP-1300, RTP-1600為Ecopia進(jìn)口真空快速退火爐，儀器帶有控制軟件，為臺式設(shè)計。

RT-1300可以退火100mmX100mm尺寸的樣品，RTP-1600可以退火150mmX150mm尺寸的樣品。

技術(shù)規(guī)格：

- 加熱方式：紅外鹵素鎢燈，1.2KW/支；
- 鹵素紅外燈數(shù)量：12支，或18支；

- 最快升溫速率：100℃/秒；

- 最快降溫速率：60秒(1000℃ → 400℃)；

- 最高溫度：1200℃；

- 溫度精度：+/-1℃

- 最大樣品尺寸：100X 100mm, 或150mm X 150mm；

- 退火環(huán)境：真空、惰性氣體、空氣、其他工藝氣氛(如氧氣、氫氣等)；

- 真空泵及極限壓力：機械泵，10-3Torr水平(選配)；

- 電壓：220 V，單相或三相；

- 儀器尺寸：500 X 400 X 500mm (W X D X H)；

- 質(zhì)量：凈重60Kg；

儀器特點：

- 可在真空/不同氣氛/空氣不同環(huán)境下，對樣品進(jìn)行快速熱處理；

- 溫控精度高；

- 適合高?；蜓芯克蒲惺褂?；

- 帶有RTP控制軟件；

- 緊湊的臺式設(shè)計；

- 儀器操作方便，樣片裝取容易；

- 價格合理，高性價比；

應(yīng)用領(lǐng)域：

- 快速熱退火 (Rapid Thermal Annea領(lǐng),RTA);

- 快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

- 快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

- 硅化 (Silicidation);

- 擴(kuò)散 (Diffusion);

- 化合物半導(dǎo)體退火 (Compound Semiconductor Annea領(lǐng));

- 離子注入后退火 (Implant Annea領(lǐng));

- 電極合金化 (Contact Alloying);

- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);

- 合金熔點分析；

- 薄膜沉積；

等等…

RTP-1300快速退火爐參考用戶：

北京師范大學(xué)、北京理工大學(xué)、昆明理工大學(xué)、ZG科大、東南大學(xué)、西安交通大學(xué)、陜西師大、渤海大學(xué)、中科院蘇州納米所、國電光伏、蘇州新磊等...