介紹：

桌面式等離子清洗、蝕刻系統(tǒng)，等離子刻蝕&反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)

腔室結(jié)構(gòu)：

型號(hào)比較：

應(yīng)用：

·        刻蝕：氧化物刻蝕 RIE模式， 氮化物刻蝕RIE模式， 硅刻蝕 RIE模式， 光刻膠刻蝕 RIE模式， 聚合物（RIE+PE），二維材料 RIE

·        表面處理：親水處理 PE模式，功能化 PE模式，粘附力增強(qiáng)：PE+RIE，高分子： RIE+PE

·        氧化物刻蝕

        可以實(shí)現(xiàn)1um以下刻蝕

·        輕刻蝕（PS-b-PMMA）

·        輕刻蝕（WSe2）

·        Parylene聚對(duì)二甲苯刻蝕

·        刻蝕一致性

·        鈣鈦礦太陽(yáng)能電池

·        MoS2,WS2,ReS2, 減薄