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半導(dǎo)體封裝殘留清洗 - 納米干冰干式免耗材方案

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產(chǎn)品特點

無損清洗
CO2 微粒子技術(shù)
微納米級別異物清洗
干工序無需干燥處理
無廢水、廢液殘留

詳細介紹

以顆粒狀的干冰作為清洗介質(zhì),通過壓縮空氣將干冰微粒高速噴向清洗物表面,使清洗物表面的污垢

冷凍至脆化并爆裂,干冰微粒通過撞擊作用滲透到污垢及基層材料之間,隨即升華,體積瞬時增大800倍,

迫使污垢與基層材料脫離,達到清洗的目的。解決微納電子制造產(chǎn)業(yè)如半導(dǎo)體、光學(xué)、液晶面板等行

業(yè)表面污染物清洗困難。

清洗原理示意圖


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