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產(chǎn)品中心

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Plasma Stripper (Asher) 等離子去膠機

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產(chǎn)品特點

開放式設計,可快速加載和卸載晶圓;

基片放置在石英上,以避免濺射/再沉積電極材料;

通過頂部電極上的“蓮蓬頭”進氣口將氣體注入工藝室。

詳細介紹

應用:從蝕刻晶圓片上移除光刻膠

 

流程配置: RIE/ICP

 

工作原理

。使用等離子體源,生成單原子反應種。

。氧是最常見的反應物質(zhì)。反應性物質(zhì)與光阻結(jié)合形成灰,

。用真空泵將其除去。

。ICP結(jié)構避免了高能離子轟擊和電容耦合,

。提供低襯底損傷。

 

可用氣體:  O2, N2O

 

主要性能:

。開放式設計,可快速加載和卸載晶圓。

?;胖迷谑⑸希员苊鉃R射/再沉積電極材料

。通過頂部電極上的“蓮蓬頭”進氣口將氣體注入工藝室

。電感耦合等離子體(ICP)和電極的獨立射頻發(fā)生器提供對離子能量和離子密度的獨立控制

。高電導泵浦端口提供高的氣體吞吐量,以最快的腐蝕速率

。使用等離子體源,生成單原子反應種。氧是最常見的反應物質(zhì)。


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