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脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)
- 品牌：美國BlueWave
- 型號： Physical Vapor Deposition Plus
- 產(chǎn)地：美洲 美國
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議
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QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司
更新時(shí)間：2025-06-09 09:41:33 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品樣品制備(54件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- ?可集成熱蒸發(fā)源或?yàn)R射源
?可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺 詳細(xì)介紹
BlueWave是一家著 名的美國半導(dǎo)體設(shè)備、材料生產(chǎn)商。BlueWave提供多種薄膜制備系統(tǒng)，包括脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、反應(yīng)濺射、熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)、熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)。這些系統(tǒng)是理想的薄膜與涂層合成設(shè)備?？芍苽涞谋∧ぐǖ?、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外，BlueWave還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。
1、脈沖激光沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品特點(diǎn)
超高真空不銹鋼腔體?可集成熱蒸發(fā)源或?yàn)R射源?可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺?流量計(jì)或針閥精確控制氣體流量?標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)?干泵與分子泵?可選配不銹鋼快速進(jìn)樣室?可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)?是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的zui佳設(shè)備2、物理氣相沉積系統(tǒng)（Physical Vapor Deposition Plus）
產(chǎn)品特點(diǎn)
?超高真空不銹鋼腔體
?電子束、熱蒸發(fā)、脈沖激光沉積可集成?獨(dú)立襯底加熱，可旋轉(zhuǎn)?多量程氣體流量控制器?標(biāo)準(zhǔn)氣壓計(jì)?機(jī)械、分子、冷凝真空泵
?可選不銹鋼快速進(jìn)樣室?襯底和源距離可控?可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜
3、熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（TCVD）
產(chǎn)品特點(diǎn)?高溫石英管反應(yīng)器設(shè)計(jì)?溫度范圍：室溫到1100度?多路氣體精確控制?標(biāo)準(zhǔn)氣壓計(jì)?易于操作?可配機(jī)械泵實(shí)現(xiàn)低壓TCVD
?可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜?液體前驅(qū)體噴頭?2英寸超大wan美溫度均勻區(qū)4、熱絲化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（HFCVD）
產(chǎn)品特點(diǎn)：?水冷不銹鋼超高真空腔?熱絲易安裝、更換?4個(gè)不同量程氣體控制器?標(biāo)準(zhǔn)氣壓計(jì)?襯底與熱絲距離可調(diào)節(jié)?2英寸襯底加熱、可旋轉(zhuǎn)?wan美制備金剛石和石墨烯
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