分享 收藏

棱鏡耦合儀Model 2010

品牌：北京先鋒科技
型號/貨號： Model 2010/Model 2010
產(chǎn)地：北京海淀區(qū)
供應(yīng)商報價：面議

北京先鋒泰坦科技有限公司更新時間：2025-04-29 11:22:18

銷售范圍售全國

入駐年限第10年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品薄膜厚度/折射率測試儀(1件)

立即掃碼咨詢

聯(lián)系方式：13810146393

聯(lián)系我們時請說明在儀器網(wǎng)（www.yn180.com）上看到的!

掃碼分享

為您推薦

棱鏡耦合儀Model 2010

產(chǎn)品特點(diǎn)

詳細(xì)介紹

棱鏡耦合波導(dǎo)測試儀

Metricon 公司的Model 2010 棱鏡耦合儀使用先進(jìn)的光波導(dǎo)技術(shù)，對電介質(zhì)及聚合物膜的膜厚和折射率/ 雙折射進(jìn)行快速及準(zhǔn)確的測量。對于許多薄膜及光波導(dǎo)用途，Model 2010 提供了比以橢圓光度法或分光光度法為基礎(chǔ)的傳統(tǒng)儀器更獨(dú)特的技術(shù)。
MODEL 2010 的優(yōu)勢
Model 2010 數(shù)據(jù)分析軟件是完全通用的，兼容Windows XP / Vista / Windows 7, 極大地提高了用戶友好的控制程序, 和新測量的功能，允許測量從常見到特殊的薄膜而不需依靠內(nèi)部系數(shù)或菜單式校準(zhǔn)曲線。
? 不必預(yù)先知曉厚度及折射率
? ±0.0005 常規(guī)折射率分辨率- 尤其在大批量生產(chǎn)時比其他技術(shù)更具優(yōu)勢( 可獲得更高折射率)
? 完全通用化- 沒有固定的薄膜/ 基底合并菜單
? 可測量雙膜結(jié)構(gòu)中的單膜厚度及折射率
? 可進(jìn)行體材料或基底材料的高精度折射率測量
? 快速測量薄膜或漫反射光波導(dǎo)參數(shù)(20s)
美國Metricon 公司生產(chǎn)了*一臺棱鏡耦合儀，開創(chuàng)了在薄膜、大面積材料、光波導(dǎo)等實際應(yīng)用中的棱鏡耦合測量技術(shù)，多年來已經(jīng)有超過千套測試系統(tǒng)在多個大學(xué)，研究所和企業(yè)實際應(yīng)用。
主要技術(shù)指標(biāo)
? 折射率精度:±0.001( 甚至更高±.0002 to ±.0005，視樣品而定)
? 折射率分辨率:±.0001 to ±.0003( 甚至高于±.00005)
? 厚度精度:±(0.5％ + 5 nm)
? 厚度分辨率:±0.3％
? 折射率測量范圍:2.65 以下( 一些情況可達(dá)3.35 以下)
? 操作波長:632.8nm,1310nm,1550nm 以及其他可見光/ 近紅外光
? 允許的基底材料: 硅、砷化鎵、玻璃、石英、GGG、藍(lán)寶石、鋰酸鈮等
2010棱鏡耦合儀的主要特點(diǎn)
? 中/ 厚膜膜厚及折射率( 尤其是光波導(dǎo))測量的*佳選擇
? 不需要預(yù)先知道膜的厚度
? 獨(dú)特的氣壓耦合方式, 不需要加耦合液

? 軟件:windows version 操作軟件
? 輸出: 計算機(jī)顯示和打印機(jī)輸出

薄膜類型和折射率	厚度和折射率一起測量	僅測量厚度
硅基上的二氧化硅 (n=1.46)	0.48-150μm	0.20-0.48μm
硅基上的光刻膠 (n=1.63)	0.42-150μm	0.18-0.42μm
二氧化硅上的光刻膠 (n=1.63)	0.70-150μm	0.30-0.70μm
硅基上的聚酰亞胺 (n=1.72)	0.38-150μm	0.15-0.38μm
二氧化硅上的聚酰亞胺 (n=1.72)	0.50-150μm	0.16-0.50μm
硅基上的氮氧化硅 (n=1.80)	0.35-150μm	0.14-0.35μm
二氧化硅上的氮氧化硅 (n=1.80)	0.45-150μm	0.13-0.45μm
硅基上的氮化硅 (n=2.0)	0.32-150μm	0.12-0.32μm
二氧化硅上的氮化硅 (n=2.0)	0.30-150μm	0.15-0.30μm

測試原理
當(dāng)光入射到棱鏡上, 隨著旋轉(zhuǎn)臺的旋轉(zhuǎn), 入射角就隨之發(fā)生了變化, 在某一個入射角度, 光子就會經(jīng)空氣狹縫進(jìn)入薄膜傳輸出來, 因此探測器得到的光子能量就會降低, 形成凹陷, 這叫做泄漏模。*一個模的位置決定了薄膜的折射率, 而模間隔決定了薄膜的厚度。
棱鏡耦合儀和橢偏儀的區(qū)別