NIE-3500（A）全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計算機(jī)全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為。

該IBE離子束刻蝕系統(tǒng)具有很強(qiáng)的適應(yīng)性，可根據(jù)不同的應(yīng)用而按不同的配置進(jìn)行建構(gòu)。多樣的樣片夾具和離子源配置可支持用戶不同的應(yīng)用。用于離子銑系統(tǒng)的樣片夾具可以支持±90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。

我們的IBE離子束刻蝕系統(tǒng)可以把基片溫度保持在50°C以內(nèi)的能力。通過傾斜和旋轉(zhuǎn)，可以刻蝕出帶斜坡的槽，并且改善了對側(cè)壁輪廓和徑向均勻度的控制。不同的選配項可以用于不同的網(wǎng)格配置以及中和器。濺射選配項可以支持對新刻蝕金屬表面的涂覆，以防氧化。此外，還可以選配單晶圓自動上下片功能。該系列IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)可以配置RF ICP離子源，升級為RIBE反應(yīng)離子束刻蝕系統(tǒng)。

NIE-3500（A）全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品特點：

• 低成本

• 帶預(yù)真空鎖，自動上下載片

• 離子束：高達(dá)2KV/10mA

• 離子電流密度100-360uA/cm2

• 離子束直徑：4",5",6"

• 兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)

• 極限真空5x10^-7Torr

• 260l/s渦輪分子泵，串接500 l/min干泵

• 14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體

• 水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(NIE-3500)

• 自動上下載片（NIE-3500）

• 基于LabView軟件的PC計算機(jī)全自動控制

• 占地面積30"x30"

  
  

NIE-3500（A）全自動IBE離子束刻蝕設(shè)備應(yīng)用：

• 表面處理

• 離子銑

• 表面清洗

• 帶活性氣體的離子束刻蝕：  光柵刻蝕，以及SiO₂，Si和金屬的深槽刻蝕