THEIA 超快平面原子層沉積系統(tǒng)

THEIA 是一款高性能，穩(wěn)定，靈活，可靠且安全的研發(fā)型原子層沉積系統(tǒng)，兼具工業(yè)生產(chǎn)解決方案的優(yōu)勢(shì)。THEIA 可進(jìn)行升級(jí)改造，從而滿足科學(xué)研究的各種需求，并實(shí)現(xiàn)從“研發(fā)”到“生產(chǎn)”的無(wú)縫銜接。

產(chǎn)品規(guī)格

1.  SMFD-ALDTM 超快沉積：12-30 nm/min

2. 低維護(hù)周期：平均每 50 μm 沉積后維護(hù)一次

3. 專利閥門(mén)：可實(shí)現(xiàn) <1ms 開(kāi)關(guān)控制，壽命可達(dá) 1 億次循環(huán)，在 220℃ 下長(zhǎng)期穩(wěn)定工作

4. 薄膜不均勻度 <1%

5. 可容納 3 片 75-300mm 基片，300×300×10mm 的腔室

產(chǎn)品特點(diǎn)

THEIA 解決了困擾 ALD 工藝多年以來(lái)的問(wèn)題：效率與維護(hù)。ALD 雖然擁有較好的膜厚控制與均一性，但因?yàn)樾什桓?，市?chǎng)容量仍然低于 CVD。Forge Nano 擁有 SMFD-ALDTM 超快沉積技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)最快 12-30nm/min 的沉積效率，將 ALD 沉積效率提升到新的高度。同時(shí)實(shí)現(xiàn)前驅(qū)體高利用率以及低維護(hù)成本，與 CVD 相比，THEIA 的集成減排設(shè)計(jì)可以實(shí)現(xiàn)污染物“零排放”，避免了環(huán)境污染問(wèn)題，節(jié)約大量成本，為 ALD 工藝提供了新的參考標(biāo)準(zhǔn)。