德國(guó)SENTECH 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

• SI 500D 代表了等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積介電薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等離子體源，反應(yīng)氣體分離氣體入口，動(dòng)態(tài)控溫基片電極，全控真空系統(tǒng)，采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的先進(jìn)森泰克控制軟件，以及一個(gè)非常友好的通用用戶界面來(lái)操作SI 500D。

• 詳細(xì)介紹

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  超高密度等離子體

  SI 500d具有特殊的等離子體特性，如高密度、低離子能量和介質(zhì)膜的低壓沉積。

  平面等離子體源

  森泰克ZG的平面三螺旋天線(PTSA)等離子體源允許高效率低功率耦合。

  杰出的沉積特性

  低腐蝕速率、高擊穿電壓、低應(yīng)力、基體無(wú)損傷、界面狀態(tài)密度極低，沉積溫度小于100℃，使沉積薄膜具有優(yōu)異的性能。
   

  動(dòng)態(tài)溫度控制

  采用動(dòng)態(tài)溫度控制的基片電極，結(jié)合He背面冷卻和基片背面溫度傳感，在室溫至+350℃的大范圍溫度范圍內(nèi)，提供優(yōu)良的穩(wěn)定工藝條件。

  SI 500d代表了等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積介電薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等離子體源，反應(yīng)氣體分離氣體入口，動(dòng)態(tài)控溫基片電極，全控真空系統(tǒng)，采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的先進(jìn)森泰克控制軟件，以及一個(gè)非常友好的通用用戶界面來(lái)操作SI 500d。

  從直徑200毫米的晶圓片到負(fù)載在載體上的各種基板，都可以在SI 500 d中進(jìn)行加工。

  SI 500d等離子體增強(qiáng)沉積工具可在室溫至350℃范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx、SiONx和a- SI薄膜。溶液可用來(lái)沉積TEOS、SiC和其他具有液體或氣體前驅(qū)體的材料。s500d特別適用于有機(jī)材料在低溫下沉積高效的保護(hù)屏障，以及在規(guī)定溫度下無(wú)損傷沉積鈍化膜。

  森泰科提供不同的自動(dòng)化水平，從真空盒式磁帶加載到一個(gè)過(guò)程室，多達(dá)六個(gè)端口集群，具有不同的沉積和蝕刻模塊，目標(biāo)是高靈活性或高吞吐量。SI 500d也可以作為集群配置上的進(jìn)程模塊。
   

  SI 500 D

  ICPECVD等離子體沉積工具

  與真空l(shuí)oadlock

  高達(dá)200毫米晶圓

  襯底溫度從RT到350℃

  激光端點(diǎn)檢測(cè)

  可選的襯底偏置